除了电离辐射暴露之外，脑肿瘤几乎没有明确的风险因素。调查其他环境和职业风险因素的研究通常报告不一致的结果。一些研究报告了各种职业或行业的积极关联，包括农业，卫星或航空航天机电制造，纸浆和造纸生产，工程建筑，护理，纺织工业维护和食品生产或加工;一些研究表明，汽车车身画家，设计师和装饰师，经理，军事职业，生产经理，教师，计算机程序员，检查员和医生也可能面临患脑瘤的风险增加。还有研究报告了与金属的特定职业暴露，金属加工液，农药，沥青，甲醛，氯乙烯，石油产品，油雾和芳香烃和脂肪烃的关联。然而，证据支持这些团体的整体实力有限，由于各研究结果不一致，研究对象的小数字，在职业暴露评估的不确定性和缺乏职业暴露之间可能的相互作用的知识。还研究了与职业暴露于极低频磁场相关的潜在健康风险。一项荟萃分析报告，职业性极低频磁场暴露与脑肿瘤风险之间存在显着正相关，尽管几乎没有证据表明存在暴露反应关系。自那时以来发表的研究报告了相互矛盾的研究结果。一项基于工作暴露矩阵的美国研究补充了工作模块，报告职业性极低频磁场与胶质瘤或脑膜瘤风险之间没有关联。法国的一项研究报告，使用专家判断评估的职业性极低频磁场与脑膜瘤风险之间存在显着的正相关但不精确的关联。在荷兰和英国最近的队列研究还报告了职业极低频磁场和脑肿瘤的风险关联的证据。
　　 很少有研究在不同的暴露时间窗中检查职业性极低频磁场。在国际研究中，一项大规模的，基于人群的病例对照研究，包括基于更大的研究的近多例脑胶质瘤和脑膜瘤病例的数据，研究人员最近报道终身累积极低频磁场暴露与胶质瘤之间没有关联或脑膜瘤风险，尽管在最近的暴露时间窗中，在诊断参考日期前注意到与极低频磁场的正相关可能表明极低频磁场在脑肿瘤促进或进展中的病因学作用。虽然没有明确证据表明在中职业接触燃烧产物，粉尘和其他化学药剂或溶剂与胶质瘤或脑膜瘤风险之间存在关联，但研究人员最近发现了职业性金属暴露，特别是女性铁暴露之间存在正相关关系的证据以及总体上的油雾暴露和脑膜瘤风险。脑肿瘤的职业暴露之间也可能存在相互作用，但关于可能的相互作用的流行病学文献很少。在一项瑞典以人口为基础的研究中，人口普查记录的所有男性通过与癌症登记处的联系被追踪了几年，观察到了一种积极的关联极低频磁场和胶质瘤之间只有伴随化学暴露的风险。类似地，溶剂，铅和农药暴露仅与中度至高极低频磁场暴露的神经胶质瘤相关。尽管在一些暴露组中几乎没有病例，但在职业性极低频磁场和脑膜瘤的化学暴露之间没有观察到明显的相互作用。该分析的目的是检查研究中脑肿瘤职业暴露之间可能的相互作用，更具体地说，职业极低频磁场与金属，溶剂和其他化学物质之间可能存在的相互作用。提供了一个独特的机会，可以在一项大型的，完善的研究中检查这种相互作用，并为研究参与者收集详细的职业历史数据。
　　 基于人群的病例对照研究，基于为与移动电话相关的潜在癌症风险的更大的研究收集的数据使用。从主要人群区域的治疗中心招募了原发性胶质瘤和脑膜瘤的事件病例，通过二级来源评估了病例确定的完整性。以色列和英国的年龄范围较长。所有病例均经组织学证实或通过明确的诊断成像确诊。通过不同国家的不同招募程序选择人口控制。对于每个研究中心的每个神经胶质瘤和脑膜瘤病例，随机选择一个对照，并按性别和出生年份进行频率匹配或单独匹配。为了最大化统计效力，所有符合条件的神经胶质瘤和脑膜瘤控制作为的一部分被收录在这里。从符合条件的病例和多例对照中，共采访了多例和几例对照。对于脑胶质瘤病例，的对照参考日期被设定为访谈日期减去病例诊断和按国家访谈的中位数差异。
　　道德批准来自当地研究伦理委员会，以及国际癌症研究机构伦理审查委员会和和巴塞罗那市医学研究所。要求参与者在面试前提供书面知情同意书。由训练有素的访调员与研究参与者进行计算机辅助个人访谈。代理受访者，主要针对神经胶质瘤病例，在必要时使用。访谈中捕获了有关人口统计，家庭，医疗和其他个人特征的数据，包括所有持有几个月或更长时间的工作的职业日历。详细的职业数据包括职位，公司名称和描述，以及所有工作的开始和结束年份。由于无效的开始停止日期而排除少量工作后，共保留了几个工作用于分析。职称被编入标准职业和工业分类系统，国际标准职业分类国际标准工业分类。病例和对照组持有的工作岗位数量相似，基于主要与代码相关联的基于测量的更新工作暴露矩阵以及在可能的情况下针对电气作业的更具体的代码，为每个作业分配平均工作日极低频磁场暴露的估计。工作暴露矩阵中包含的研究使用带宽个人监测器来测量微移动磁通密度的全移时间加权平均极低频磁场暴露。使用了几何平均极低频磁场暴露的估计值，并且可以从工作暴露矩阵获得大多数工作。对于剩余的工作，极低频磁场暴露是根据类似代码，专家判断或未知职业的研究中心特定控制平均值分配的。根据芬兰工作暴露矩阵的修改版本，涵盖期间，对每项工作分配职业接触几种不同金属，溶剂或其他先验化学品。在工作暴露矩阵和编码系统之间开发了一条人行横道。对工作暴露矩阵的更新包括将时间段分为两个时期;修改一些条目以增强其一致性和特异性，以及对不同研究国家的普遍性;并更新苯并芘和多环芳烃的条目，包括职业接触环境烟草烟雾。对每个工作分配了暴露工人比例和算术平均暴露水平的估计值。个人被认为具有“不确定”的暴露状态，并且被排除在此之外，基于产品的所有工作总和工作持续时间的总和构建终身累积暴露的指标。
　　 根据职业性极低频磁场的二分类别对照暴露分布的和化学暴露量，使用条件回归模型获得调整的的胶质瘤或脑膜瘤风险在所有七个国家中，相对于低极低频磁场从未接触过化学品的共同参考类别，总和从未相比。对于任何金属或单个金属的分析，参考类别包括不接触任何金属的参与者;类似地，单个溶剂的参考类别是没有暴露于任何溶剂的参与者。模型按国家地区，并根据教育水平进行调整。主要分析侧重于暴露时间窗中累积职业极低频磁场之间的相互作用，因为研究人员有兴趣评估极低频磁场的潜在促进或进展效应，并且在此时间窗口中使用此指标观察到极低频磁场的最强独立效应工作。职业化学品暴露被认为是几年滞后，也与以前的工作一样。根据极低频磁场暴露水平进行敏感性分析，以检查更大的暴露对比度，以及仅暴露的受试者每种化学品的累积控制暴露分布，并通过化学暴露与未暴露和化学暴露水平的就业暴露状态来解决潜在差异。在假设不存在偏差的情况下，在加性和乘法量表上评估相互作用。在添加剂量表上，在适当的情况下计算由相互作用引起的相对超额风险的估计值和相关的。在乘法量表上，将乘积项输入条件逻辑回归模型，并根据似然比检验评估其显着性。所有统计测试都是双面的。使用进行分析。共有几例胶质瘤病例，几例脑膜瘤病例和几例对照，在排除没有职业病史或缺少感兴趣的协变量数据的参与者后，保留用于分析。虽然胶质瘤病例主要为男性，但大多数脑膜瘤病例为女性。与高中教育相比，少数脑胶质瘤和脑膜瘤病例和对照组的受教育程度高于高中或更低。英国和以色列贡献了神经胶质瘤病例;以色列和德国占脑膜瘤病例。检查职业性极低频磁场和化学品暴露之间可能的相互作用的结果分别针对神经胶质瘤和脑膜瘤在一系列表格中列出，这些表格根据金属和其他表格分组，以获得有关溶剂和其他化学试剂的结果。虽然大多数表格显示相对于低极低频磁场从未化学品暴露的共同参考类别的结果，但其他表格显示相对于低极低频磁场低化学品暴露的结果。后者被称为“仅暴露分析”。
　　 在脑胶质瘤分析中，任何金属暴露的患病，金属和高极低频磁场暴露的患病。对于高极低频磁场暴露的比值比与在没有金属暴露的指数日期之前的暴露时间窗中的低极低频磁场暴露相比是。低极低频磁场暴露组中任何与从不金属暴露的比值比显着降低。高极低频磁场和任何金属暴露的比值比，类似于单独极低频磁场的比值比。虽然在临界意义的乘法量表上存在正相互作用，但其方向是由低极低频磁场金属暴露组中显着降低的比值比驱动的。在单个金属暴露或暴露于焊接烟雾中观察到类似的结果，其中具有正的，并且在一些情况下，由低极低频磁场金属暴露组中的比值比降低驱动的显着的乘法相互作用。任何溶剂暴露的流行率总体，任何溶剂和高极低频磁场暴露均。在没有溶剂暴露的情况下，暴露时间窗中高极低频磁场暴露的比值比，对于任何低极低频磁场溶剂暴露，与低极低频磁场无溶剂暴露参照组相比，再次类似于单独极低频磁场的比值比。在乘法量表上没有观察到显着的相互作用。特定溶剂的结果通常相似。对于其他暴露，石棉，苯并芘和多环芳烃在乘法尺度上观察到显着的正相互作用，尽管它们被驱动与金属一样通过显着降低化学暴露组中的比值比在极低频磁场低的人中;对于苯并芘和多环芳烃，大量参与者也被认为具有“不确定”的暴露状态并被排除在分析之外和所有暴露类别中的比值比。没有明确证据表明与高极低频磁场化学暴露组中的比值比通常≤预期的其他特定化学物质相互作用。没有明确证据表明极低频磁场与任何评估胶质瘤的化学试剂之间的添加剂量级相互作用。对于脑膜瘤，任何金属暴露的患病率总体上，任何金属和高极低频磁场暴露的患病。在暴露时间窗中，高极低频磁场暴露与比值比之间存在小的正相关。低极低频磁场组中任何金属暴露的比值比接近于比值比。具有高极低频磁场和任何金属暴露的那些之间的比值比显着升高并且存在阳性但非显着的相互作用。单个金属的结果大致相似，极低频磁场和金属暴露的个体金属的比值比值略有增加，但低极低频磁场组的铅和焊接烟雾暴露的比值比值也有所下降，但不显着。对于溶剂，任何溶剂暴露的流行率都与低极低频磁场无溶剂暴露参考组相比，两次曝光的组合比值比。对于特定溶剂，低极低频磁场组中脂肪族和脂环族烃，其他有机溶剂和甲苯暴露有一些正比值比，但高极低频磁场和化学暴露组中的比值比不大于预期。
　　对于脑膜瘤，苯并芘和多环芳烃也存在显着的正乘性相互作用，单独的极低频磁场和化学暴露组的比值比值降低，两种暴露的比值比值均较小，尽管，这是一个简化的分析小组，由于“不确定”的暴露，大量参与者被排除在分析之外。对于其他特定暴露，没有明确的相互作用证据。在极低频磁场和任何评估脑膜瘤的化学药剂之间也没有明确的证据表明相容性。结果中的一般模式与主要分析相似，并且可用的样本大小显着减小。不包括代理受访者或被访谈员判断为对访谈不感兴趣的参与者的结果也是类似的。当检查高化学暴露和低化学暴露的类别时，低极低频磁场高金属暴露组中胶质瘤和脑膜瘤的比值比值通常，与主要分析中观察到的比值比降低相反，尽管它们不精确。在大多数化学药剂的暴露分析中，没有明确的证据证明胶质瘤或脑膜瘤有相互作用。对于脑膜瘤，存在显着的负相互作用和高铁，其中关节暴露组中的比值比低于个体效应的产物。在根据不同暴露时间窗的敏感性分析中，在暴露时间窗中检查极低频磁场时，也没有明确的证据表明胶质瘤或脑膜瘤相互作用，高极低频磁场的比值比弱无效对于神经胶质瘤。在检查极低频磁场和化学品暴露总体时，也没有相互作用的证据，尽管低极低频磁场组中任何金属暴露的比值比降低不再明显，对于脑膜瘤，它们的铁显着升高和镍具体地。极低频磁场的比值比值。
　　仅分析女性脑膜瘤风险的潜在相互作用，暴露时间窗中极低频磁场的比值比，任何金属暴露和综合效应分别，然而，没有足够数量的暴露女性来检查与个别金属的潜在相互作用。总体而言，没有明确的证据表明职业性极低频磁场与所检查的任何化学暴露之间存在相互作用，包括金属，溶剂，粉尘和其他化学物质对胶质瘤或脑膜瘤风险的影响。对于神经胶质瘤，极低频磁场与任何金属暴露之间的乘法量表以及暴露于特定金属之间存在正的显着相互作用，尽管其方向是由低极低频磁场金属暴露组中的比值比降低驱动的。据研究人员所知，之前只有一项流行病学研究探讨了极低频磁场与脑肿瘤化学暴露之间的相互作用。在基于瑞典登记数据的随访中，观察到极低频磁场与胶质瘤在同时化学暴露的男性之间存在正相关关系。然而，结果是基于研究期开始时的职业，并且没有评估职业随时间的变化。相比之下，在目前的研究中，研究参与者在其整个工作生涯期间获得了详细的职业史，使研究人员能够在特定的感兴趣的时间窗口中检查极低频磁场和化学暴露。目前研究的主要分析基于暴露时间窗中极低频磁场暴露的二分类别，因为极低频磁场被怀疑在脑肿瘤促进或进展和化学暴露中起作用。年滞后。然而，在敏感性分析中，研究人员还考虑了极低频磁场和化学暴露的替代暴露时间窗。目前尚不清楚暴露时间窗中低极低频磁场组中化学物质的比值比降低，特别是对于胶质瘤和金属，是由于偶然或某种偏见。减少的比值比通常使用备用暴露时间窗减弱;此外，在总体分析中，观察到一些金属对脑膜瘤的显着正相关。还进行了多次测试，提高了错误显着发现的可能性。在仅暴露分析中，低极低频磁场高金属组中的比值比也没有像主分析那样降低。然而，在一些暴露组中，或者在某些情况下，暴露的参与者数量不足以考虑化学暴露水平的受试者很少。使用极低频磁场的替代切点的结果也相似。先前的研究无法考虑由于受试者数量少而导致的职业化学品暴露水平。